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SLS200-400機(jī)封-成都機(jī)封-天固密封 ：

鑄件要求

1. 鑄件表面上不允許有冷隔、裂紋、縮孔和穿透性缺陷及嚴(yán)重的殘缺類(lèi)缺陷（如欠鑄、機(jī)械損傷等）。

2. 鑄件應(yīng)清理干凈，不得有毛刺、飛邊，非加工表明上的澆冒口應(yīng)清理與鑄件表面齊平。

3. 鑄件非加工表面上的鑄字和標(biāo)志應(yīng)清晰可辨，位置和字體應(yīng)符合圖樣要求。

4. 鑄件非加工表面的粗糙度，砂型鑄造R，不大于50μm。

5. 鑄件應(yīng)清除澆冒口、飛刺等。非加工表面上的澆冒口殘留量要鏟平、磨光，達(dá)到表面質(zhì)量要求。

6. 鑄件上的型砂、芯砂和芯骨應(yīng)清除干凈。

7. 鑄件有傾斜的部位、其尺寸公差帶應(yīng)沿傾斜面對(duì)稱(chēng)配置。

8. 鑄件上的型砂、芯砂、芯骨、多肉、粘沙等應(yīng)鏟磨平整，SLS200-500A機(jī)封，清理干凈。

9. 對(duì)錯(cuò)型、凸臺(tái)鑄偏等應(yīng)予以修正，達(dá)到圓滑過(guò)渡，一保證外觀質(zhì)量。

10. 鑄件非加工表面的皺褶，深度小于2mm，間距應(yīng)大于100mm。

11. 機(jī)器產(chǎn)品鑄件的非加工表面均需噴丸處理或滾筒處理，達(dá)到清潔度Sa2 1/2級(jí)的要求。

12. 鑄件必須進(jìn)行水韌處理。

13. 鑄件表面應(yīng)平整，澆口、毛刺、粘砂等應(yīng)清除干凈。

14. 鑄件不允許存在有損于使用的冷隔、裂紋、孔洞等鑄造缺陷。

需控制密封腔的壓力和沖洗的流速，SLS250-300機(jī)封，一般清潔沖洗液的流速應(yīng)小于5m/s；含有顆粒的漿狀液體須小于3m/s，為達(dá)到上述的流速值，沖洗液與密封腔壓力的差值應(yīng)<0.5MPa，一般取0.05--0.1MPa，對(duì)雙端面機(jī)械密封件可取0.1--0.2MP，沖洗液進(jìn)入和排出密封腔的孔口位置，應(yīng)設(shè)置在密封端面附近，且應(yīng)在靠近動(dòng)環(huán)側(cè)，為了防止石墨環(huán)被沖蝕或因冷卻不均引起溫差變形，以及雜質(zhì)堆積和結(jié)焦等，可采用切向引入或多點(diǎn)沖洗.必要時(shí)，沖洗液可以是熱水或蒸汽。

如泄漏介質(zhì)沿軸向噴射，則動(dòng)環(huán)密封圈存在問(wèn)題居多，泄漏介質(zhì)向四周?chē)娚浠驈乃鋮s孔中漏出，則多為靜環(huán)密封圈失效，此外，泄漏通道也可同時(shí)存在，但一般有主次區(qū)別，只要觀察細(xì)致，熟悉結(jié)構(gòu)，一定能正確判斷

機(jī)械密封的密封環(huán)之間應(yīng)有一層液體薄膜，具有下列三個(gè)作用：1.支持密封受到的大部分水壓負(fù)荷。2.作為潤(rùn)滑劑，減少密封環(huán)生成的摩擦熱。3.使粗糙接觸zui小化，從而降低磨損率。4.作為傳熱介質(zhì)，轉(zhuǎn)移密封環(huán)直接區(qū)域的熱能。首先我們要研究密封失效的原因，根據(jù)我的經(jīng)驗(yàn)，有如下:生產(chǎn)上的缺陷；設(shè)計(jì)上的缺陷；缺少培訓(xùn)/技術(shù)；在我們拆卸機(jī)械密封的之前，我們先要想好以下幾點(diǎn)：1.主要的泄漏在哪里?2.在外部件上是否有碎片？3.是否觀察到軸或旋轉(zhuǎn)的密封部件有偏心現(xiàn)象？4.有否與系統(tǒng)相關(guān)的震動(dòng)/噪音（如氣穴，接合錯(cuò)位）？5.在“泵”或密封是否存在局部的熱生成？6.在不同的情況下泄漏是否是間歇的，如在不同的溫度下？7.屬何種泄漏，SLS200-400機(jī)封，噴射，小滴，水流或流往管道？8.軸承是否有軸向間隙？9.如果是雙端面密封，則檢查隔離液供應(yīng)是否完好。

有關(guān)密封系統(tǒng)的流體術(shù)語(yǔ)。1.沖洗流體指起沖洗作用的非密封介質(zhì)的流體。2。隔離流體指在雙端面機(jī)械密封、串聯(lián)機(jī)械密封、立式安裝帶油杯的外裝式單端面機(jī)械密封或外加.壓式流體靜壓式機(jī)械密封中，從外部引入的與被密封介質(zhì)相容的密封流體。3。密封流體指密封端面直接接觸的高壓側(cè)流體。它可以是被密封介質(zhì)本身、沖洗流體或隔離流體。 4.封液系單獨(dú)指在雙端面機(jī)械密封中，從外部引入流體，成都機(jī)封，其流體壓力高子被密封介質(zhì)的壓力，起封堵隔離作用。

鈉光的波長(zhǎng)為0.6um每個(gè)干涉條紋為半個(gè)波長(zhǎng)，即一條干涉條紋為0.3um，由干涉條紋的數(shù)量即可確定密封端面的平面度。二、怎樣確定干涉條紋的數(shù)量？密封端面的平面度不同，條紋的種類(lèi)也不同。圖16表示了幾種平面度合格的圖像，至于不合格的圖像各式各樣未予繪出。平直的條紋，表明密封端面的平面度接近光學(xué)平晶的平面度，顯然這種平面度zui高;圖16b是彎曲的條紋，干涉條紋數(shù)在一條以內(nèi)，即小于0.3um;圖16ac也是彎曲的條紋，干涉條紋數(shù)為二條，平面度在0.6um以內(nèi)，圖16d是同心圓狀的干涉條紋，如果是從平板研磨后取下來(lái)檢驗(yàn)平面度，這說(shuō)明端面的內(nèi)緣高，外緣較低，同心圓數(shù)量越多，其內(nèi)外緣高低差別越大。